LINTEC 琳得科 RAD-2000F/8 200mm 全自动紫外线照射装置

来源:玉崎半导体(深圳)有限公司
发布时间:2026-07-25 14:16:02

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LINTEC 琳得科 RAD-2000F/8 为面向 8 英寸(200mm)晶圆量产产线的全自动 UV 照射设备,同时兼容 150mm 晶圆加工,主要用于 UV 固化型划片胶带、粘晶一体化胶带的紫外曝光工序,广泛应用于功率器件、分立芯片、CSP 倒装封装、中小型存储芯片生产线,原生适配 Adwill D 系列 UV 固化划片胶带与 Adwill LE 切割粘晶二合一胶带,是晶圆划片、捡晶工艺流程中不可或缺的核心设备。整机搭载一体式晶盒上下料模组,集成闭环 UV 照度监控系统、移动扫描照射机构,能够稳定融入洁净厂房自动化产线,可与 RAD-2500F/8 全自动贴膜设备前后搭配,组成完整 8 英寸划片制程链路。

设备配备高功率 UV 光源模组,采用移动式全域扫描照射方案,有效规避晶圆边缘与中心能量差异,实现整片晶圆照射剂量均匀稳定。内置照度实时检测与自诊断功能,一旦光源衰减、腔体异常即刻报警,杜绝因 UV 能量波动造成胶带粘力不稳定、捡晶裂片等批量不良。腔体支持氮气置换选配方案,消除氧气阻聚效应,保障薄芯片、Low-K 介质晶圆工艺一致性。标准产能可达每小时 100 片,节拍稳定,适配长时间不间断连续生产。

人机交互搭载触控操作面板,内部可存储多套工艺配方,切换不同厚度胶带、各类晶圆规格时一键调用。整机符合 SEMI S2 安全规范,配备遮光防护、静电消除联锁装置,可选配 SECS/GEM 通讯模组对接工厂 MES 系统、条码识别模块实现环框信息自动读取,方便全流程品质追溯。

选型区分:RAD-2000F/8 全自动机型适合规模化量产车间;研发实验室、小批量试样可选用对应半自动机型 RAD-2000m/8。本机仅用于 D、LE 系列 UV 胶带曝光降粘,不可用于 BG 背磨胶带处理;背磨工序相关 UV 曝光与撕膜作业需要选用 RAD-3000 系列撕膜设备。D、G 普通划片胶带贴膜选用 RAD-2500 系列贴膜机,完成切割后流转至本台 UV 照射机进行处理。

可供应整机、翻新设备、原厂配套备件,提供设备规格资料、工艺调试与现场技术支持,同步配套琳得科 D 系列、LE 系列 UV 胶带整套供货,支持客户工艺试样验证与产线导入落地。


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