
LINTEC 琳得科 Adwill P 系列为非 UV 固化型晶圆背面研磨保护胶带,无需配套 UV 曝光设备,依靠稳定压敏胶体系实现晶圆正面线路防护,广泛用于 8 英寸、12 英寸硅晶圆常规背减薄制程。产品采用 PO 聚烯烃基材搭配通用丙烯酸压敏胶,百级无尘环境生产分切,低离子析出,满足半导体洁净加工标准,适合晶圆厚度 50μm 以上标准及薄晶圆研磨工况。
胶带贴合于晶圆电路面,在湿式研磨全过程保持稳定附着力,紧密包覆晶圆表面,有效阻隔研磨冷却液、硅粉碎屑渗入,避免芯片线路划伤、微粒污染,抑制研磨震动造成晶圆偏移滑移,保障研磨平整度。工艺完成后采用机械方式直接剥离,无需增设 UV 照射工序,产线设备投入更低,工艺流程更加简洁。基材韧性良好,耐研磨液浸泡,持续湿式加工不易溶胀起翘,可耐受研磨产生的温升,胶层性能稳定不易析出。产品分为透明半透明款与蓝色遮光款,蓝色版本能够阻挡环境光线干扰芯片元器件,适配各类常规器件加工。
主流型号包含 P-4140A、P-7125、P-4205B 等,适配标准平整硅晶圆,多用于功率器件、分立芯片、通用半导体样品研磨。对比埃隆 BG E 系列 UV 固化胶带,P 系列无需 UV 设备,成本优势突出,适合厚度 50μm 以上晶圆、中小批量研发产线与预算有限的加工场景;不足在于剥离依靠机械拉力,不适合 40μm 以下薄晶圆,薄晶圆加工优先选用 UV 降粘 E 系列。
原装卷材现货供应,支持定制分切宽度,适配 RAD 系列全自动贴膜机、撕膜设备,可提供物性数据表、洁净检测报告,支持试样测试、小批量试产与大批量长期供货,面向封测厂商、半导体研发实验室、芯片加工企业供货。
