图形发生器

电子束曝光技术研究组几十年不断努力和探索，特别是攻克了“图形发生器”和“定位工件台”等关键技术后，为各位从事微、纳米技术研究的提供了既具有微、纳米图形分辨率，系统简单又价格低廉的电子束曝光系统。

电子束曝光系统=（DY-2000A）纳米通用图形发生器+SEM

1.   高精度标记图形数据采集器

2.   、快速的SCSI接口

3.   扫描频率大于10 MHZ，传输数率不低于300MB/S。  高速数字信号处理器（DSP）

4.   用于X和Y方向电子束偏转的两套16位高速数模转换和控制系统

5.   12 位高性能，小温漂的ADC图形采集系统，信噪比高。

6.   采用高性能的微处理器，信号处理能力优于30M,支撑高效，高分辨的曝光结果。

7.   采用恒温抗干扰机箱，减少干扰，稳定性大大优于集成设备。

8.   配有5.6寸LED显示屏，可实时、直观的显示曝光进程。

9.   带有匹配的束闸输入接口。

10. 配有适配器，使电镜，能谱，曝光互联和转接互不干扰。

11. 配有22寸液晶显示器和PC图形控制系统一套。束闸控制：点控、线控、区域控制等

五．DY-2000A纳米通用图形发生器的软件功能:

1.    基于Windows中文操作系统的EBL应用软件，具有强大的图形编辑，界面简洁，容易操作，兼具读写及转换及图形导入等功能。

2.    具有远程控制SEM/FIB/STEM的功能。

3.    可实现数据格式为DXF、CIF、ASCII等图形的读入和转换。

4.    具有图像缩放和重叠功能，同时可实现快速图像采集，同步等等。

5.    可实现位移，旋转，增益矫正刻写场，提升曝光结果的分辨率。

6.    具有标记检测和位置修正，用于拼接和套刻对准。

7.    具有曝光、工件台移动和束闸通断等功能控制。

8.    具有点控、线控、区域及非特征图形的控制。