ORC 奥克制作所 UV-365LED 工业紫外 LED 光源

一、产品基础概述

UV-365LED 是日本 ORC（奥克制作所）365nm 单波段工业 UV-LED 照射光源系统，专为半导体光刻、精密 UV 固化、电子元器件制程打造，可直接替换传统高压汞灯放电式紫外光源，适配旗下 PPS 系列半导体曝光设备配套使用，也可独立用于实验室、量产产线 UV 固化工艺。核心发光波段固定 365nm 紫外光，同时支持多波长复合机型（365/385/405nm 三波长独立控光版本），分线照射、面照射、近距离高照度三大系列模组。

365nm光谱曲线

二、核心技术参数

1. 标准波长：主峰值 365nm UVA 紫外波段，无红外杂光

2. 功率规格：单模组 80W~2600W 分级可选，大功率水冷 / 风冷双散热方案

3. 照射尺寸

• 线光源：330mm、300mm、150mm 多种幅宽

• 面光源：方形、矩形定制大面积照射模组

4. 供电控制：AC100~240V 宽电压，数字调光电源，0~* 照度无极调节

5. 使用寿命：LED 芯片标准 30000 小时，远高于传统汞灯（仅 800~1500 小时）

6. 工作距离 WD：标准型 370mm；短距离高照度款 15mm，适配狭小腔体曝光

三、五大核心产品优势

1. 低温加工，保护精密半导体基材

LED 光源几乎不产生红外热辐射，晶圆、载板、薄膜基板照射时温升极低，避免光刻胶翘曲、柔性载板变形，*适配*封装薄基板工艺。

2. 节能长效，降低工厂运维成本

相比传统汞灯节电 60% 以上；无灯管耗材频繁更换，无臭氧、无汞污染，无需配套臭氧排风装置，符合无尘车间环保标准。

3. 瞬时启停，*控制曝光剂量

无需预热、冷却等待，开机瞬间满功率输出，关闭立刻停止发光；搭配设备时序控制器可*管控曝光时长，光刻图形一致性大幅提升。

4. 高均匀平行光学设计（ORC *光学技术）

依托企业多年曝光机光学研发积累，透镜模组输出平行紫外光，整版照射照度误差≤±3%，解决大尺寸面板、12 英寸晶圆边缘曝光不均缺陷。

5. 模块化定制，兼容各类设备集成

可单机独立使用，也能配套 PPS-8200/PPS-8300/PPS-8500 系列半导体步进曝光机；支持汞灯 + LED 混合照射系统定制，老产线设备改造无需大幅改造成本。

四、细分机型分类

1. 标准 UV-365 线光源 LUV-M 系列流水线传送带固化、连续式晶圆清洗后光刻胶预烘曝光，长幅宽批量加工。

2. 短距离高照度 UV-365 模组腔体狭小步进光刻机内部内置光源，近距离高能量快速曝光，提升设备产能。

3. 三波长复合 UV-365 混合机型365/385/405nm 三路光源独立调光，研发实验室、新材料配方评估，模拟全波段汞灯光谱。

4. 水冷大功率 UV-365 面光源大尺寸面板级封装 FOPLP 工艺，整版载板一次性大面积曝光。

五、主流应用场景

1. 半导体*封装（核心场景）

配套 PPS 系列步进光刻机：晶圆 RDL 重布线光刻、微型凸块制作、面板级扇出封装、Mini LED 载板线路曝光、晶圆临时键合胶固化。

2. 电子精密制造

FPC 柔性电路板阻焊油墨固化、摄像头模组 UV 胶粘接、光学镜头无影胶固化、芯片底部填充胶 UV 固化。

3. 实验室研发评测

光刻胶配方测试、光敏材料研发、新材料 UV 响应对比实验，三波长机型适配各类学术研发。

4. 工业批量产线

PCB 油墨固化、玻璃涂层 UV 硬化、3D 打印光敏树脂批量成型。

六、使用限制与配套说明

1. 高精密半导体无尘车间需搭配洁净级水冷散热模组，避免风冷扬尘污染晶圆；

2. 365nm 短波紫外需配套遮光腔体，防止杂光干扰光刻图形；

3. 强腐蚀工艺需搭配 ORC 防腐型遮光罩，延长光源使用寿命；

4. 若需高产能面板曝光，建议搭配 PPS-8500 步进式曝光整机联动使用。