Otsuka 大塚 紫外光谱光分布测量系统

来源:玉崎半导体(深圳)有限公司
发布时间:2026-07-03 18:42:48

一、产品概述

紫外光谱光分布测量系统是面向 UVA/UVB/UVC 紫外 LED 开发、固化 / 消杀产线质检的空间配光检测设备,搭载紫外线性扫描测角机构与紫外增强型 MCPD 多通道光谱采集单元,可全方位扫描紫外光源空间辐射分布,生成二维紫外辐射均匀性云图,直观量化灭菌、树脂固化紫外光源辐照不均缺陷,是 UV 产业链研发、量产闭环管控核心光学检测平台。

二、核心硬件技术参数

  1. :Otsuka 大塚

  2. 检测原理:紫外光谱干涉反射法 + 自动旋转测角扫描架构

  3. 扫描机构:双轴电动旋转载台,360° 全域扫描紫外光源空间光分布

  4. 适配光源:UVC 消毒 LED、UV 固化灯珠、卷对卷 UV 涂布模组、平面紫外阵列光源

  5. 光谱波段:深紫外 - 紫外 - 可见光,紫外光路滤除杂光干扰

  6. 测量输出:紫外辐射通量、空间辐照度分布云图、峰值波长、紫外光谱曲线、均匀性差值

  7. 整机结构:台式离线一体化平台,分体光纤采样,可搭配真空 KF 管路接入密闭 UV 固化腔体

  8. 软件功能:内置紫外分析算法,自动标注辐照过强 / 偏弱区域,生成均匀性检测报告

三、核心技术优势

1. 全域紫外空间配光扫描,直观评估辐照不均匀性

区别单点固定紫外检测仪,自动旋转测角机构完整扫描光源全部发射角度,输出二维紫外辐射分布云图,*识别固化、消杀设备辐照盲区、边缘衰减、中心过曝缺陷,解决传统单点检测无法评估整面均匀性的痛点。

2. 紫外专属光学光路,规避可见光杂光干扰

光路、滤光片、光纤针对紫外波段优化,自动过滤可见光杂散光,弱紫外 LED、低功率固化灯测量无信号失真,多层复合紫外涂层拟合精度大幅提升。

3. 一站式同步获取光谱 + 空间分布双维度数据

单次扫描同步捕获任意角度紫外光谱与空间辐照强度,同时输出紫外辐射通量、峰值波长、平面均匀性,无需分两台设备测试,大幅缩短样品检测周期。

4. 适配灭菌、树脂固化全产业链场景

覆盖 UVC 空气 / 水体消毒模组、UV 树脂油墨固化灯、卷对卷涂布紫外阵列、光刻紫外光源,兼顾实验室新品配方研发、产线离线抽样质检两类场景。

5. 低析出洁净光路,无尘车间适配

光路接触面电解抛光低析出处理,无金属粉尘污染紫外基材,整机可放置千级无尘车间用于光学膜、半导体 UV 制程检测。

四、核心检测功能

  1. 全方位扫描紫外 LED 空间光分布,输出二维紫外辐照均匀性云图,直观识别光源辐照不均缺陷;

  2. 同步采集任意角度紫外光谱,解析紫外辐射通量、峰值波长、分波段辐射能量;

  3. 适配灭菌消毒、树脂固化、光刻涂布等紫外应用产品研发与批次抽样质检;

  4. 非接触无损光学测量,贵重紫外光源可重复测试,无样品报废损耗;

  5. 可搭配 V-KF 真空管路组件接入密闭 UV 固化腔体,完成原位紫外光源空间分布监测。

五、典型应用场景

  1. 消杀产业:UVC 深紫外消毒模组、空气净化 LED 阵列辐照均匀性离线评估;

  2. 新材料加工:UV 树脂、油墨、胶粘剂卷对卷固化产线光源分布抽检;

  3. 半导体光刻:光刻曝光紫外阵列光源空间辐照均匀性研发验证;

  4. 工业印刷:UV 印刷固化灯、平板固化模组光分布缺陷分析。

六、同系列紫外检测设备选型区分

表格

设备测量模式核心适用场景
紫外光谱光分布测量系统双轴全域旋转扫描紫外光源空间配光、辐照均匀性二维分布检测
紫外光谱辐射通量测量系统积分球单点通量检测仅需紫外辐射通量、单点光谱,无空间分布需求
GP 系列可见光光分布系统可见光配光扫描,无紫外优化室内、泛光照明灯具,不适用紫外 LED 高精度检测

七、配套系统搭配方案

  1. 光谱采集核心:紫外增强型 MCPD 多通道光谱仪;

  2. 真空工况配套:V-KF 系列 KF 真空波纹管、V-KF-P 密封垫圈、V-KF-CL 卡箍;

  3. 自动化配套:自动上下料载台、MES 产线数据追溯上位机;

  4. 校准耗材:标准紫外辐射光源、标准均匀紫外校准板,定期整机精度。

八、使用注意事项

  1. 检测环境遮光处理,外界紫外杂光会干扰空间辐照测量精度;

  2. 定期清洁测头光学窗口,固化粉尘、树脂挥发物遮挡光路会造成数据偏差;

  3. 光纤探头禁止大幅度弯折、挤压,避免紫外光损耗升高降低重复性;

  4. 真空密闭固化腔体必须使用无氧铜金属密封垫圈,橡胶密封件耐温上限 200℃;

  5. 变频器周边通讯线缆增加电磁屏蔽,规避产线振动、电磁干扰导致光分布数据波动。


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