Otsuka 大塚 单颗粒荧光诊断系统

一、产品概述

单颗粒荧光诊断系统是 Otsuka 与日本国立材料科学研究所（NIMS）联合研发的微尺度单颗粒荧光表征平台，依托双方联合开发的专属单颗粒荧光检测方法，搭配 MCPD 多通道光谱核心，实现微米、纳米级单颗粒微区荧光原位*测量，是量子点、纳米荧光粉体、单颗粒催化、微尺度发光材料前沿研发显微荧光检测设备。本系统由显微定位载台、激发光路、荧光采集光纤、MCPD 光谱探测器、上位机分析软件完整集成，可对孤立单颗荧光颗粒完成微区荧光光谱、发光强度、单颗粒量子效率定量诊断。

二、研发背景与合作资质

系统检测方法由 Otsuka 与国立材料科学研究所（NIMS）联合攻关，联合研发人员：弘崎直人、武田隆志。传统荧光检测设备只能测试粉体、溶液整体平均荧光信号，无法区分单颗粒个体发光差异；该联合开发方案突破批量样品平均效应限制，直接捕获单颗粒独立荧光特征，填补微尺度单颗粒发光诊断设备空白。

三、核心硬件架构

1. 高精度 XY 显微定位载台：微米级*定位，锁定单个纳米 / 微米颗粒；

2. 激发光路：匹配紫外 - 可见光多波段激发光源，适配各类荧光颗粒；

3. 低杂散光荧光采集光纤：定向收集单颗粒微弱荧光信号，规避周边颗粒杂光干扰；

4. 光谱探测核心：MCPD 系列多通道高速光谱仪，紫外至近红外宽波段同步采集荧光光谱；

5. 显微成像观测模块：实时可视化观测样品，*选定待测单颗粒；

6. 配套分析软件：单颗粒荧光算法，提取单颗粒发射光谱、荧光强度、半高宽、单颗粒量子效率。

四、核心技术优势

1. 产学研联合单颗粒专属诊断算法

依托 NIMS 材料研究所前沿单颗粒表征技术，解决传统荧光设备仅能测粉体整体平均信号的短板，直接量化单颗颗粒独立荧光性能，*表征颗粒间发光不均、缺陷差异。

2. 微区低杂散光光路，微弱单颗粒荧光可捕获

定向显微采集光路屏蔽周边颗粒散射杂光，即便低发光纳米单颗粒也可获得高信噪比荧光光谱，弱荧光材料检测无信号失真。

3. 可视化显微定位，*锁定孤立单颗粒

显微成像实时观测样品，XY 载台微米级位移调节，可*挑选无团聚、孤立单颗粒开展定点荧光测试，避免团聚颗粒信号叠加干扰。

4. 全波段光谱一体化采集

搭配 MCPD 多通道光谱主机，覆盖紫外 - 近红外，同步获取单颗粒激发、发射完整光谱，一站式完成发光波长、色纯度、发光强度多维度评估。

5. 模块化拓展适配多类工况

可搭配 V-KF 真空光纤组件，搭建真空原位单颗粒荧光检测平台，适配气氛、温控环境下单颗粒动态荧光演变测试。